TFT液晶顯示屏的優(you) 缺點是什麽(me)
TFT技術是在20世紀90年代發展起來的。采用新材料和新工藝的大規模半導體(ti) 集成電路製造技術是液晶、無機和有機薄膜電致發光(EL和OEL)平板顯示器的基礎。TFT是通過濺射和化學沉積工藝在玻璃或塑料基板等非單晶片上(當然也可以在晶片上)形成製造電路所需的各種薄膜,通過加工薄膜製造大規模半導體(ti) 集成電路(LSIC)。非單晶襯底的使用可以大大降低成本,是傳(chuan) 統大規模集成電路向大麵積、多功能、低成本方向的延伸。在大麵積玻璃或塑料基板上製造TFT來控製像素(LC或有機發光二極管)的開關(guan) 性能,比在矽片上製造大規模ic更困難。對生產(chan) 環境(淨化等級100)、原料純度(電子專(zhuan) 用氣體(ti) 純度99.99985%)的要求,對生產(chan) 設備和生產(chan) 工藝的要求都超過了半導體(ti) 大規模集成的要求,是現代大規模生產(chan) 的頂尖技術。
TFT液晶顯示屏大麵積:90年代初,第一代大麵積玻璃基板(300mm×400mm)TFT-LCD生產(chan) 線投產(chan) 。到2000年上半年,玻璃基板麵積擴大到680mm×880mm,近950mm×1200mm玻璃基板也將投產(chan) 。
TFT液晶顯示屏高集成度:用於(yu) 液晶投影的1.3英寸TFT芯片分辨率為(wei) 百萬(wan) 像素XGA。分辨率SXGA(1280×1024)的TFT陣列16.1英寸非晶矽薄膜厚度隻有50nm,TABONGLASS和SYSTEMONGLASS的技術及其IC集成度、對設備和供應工藝的要求、技術難度都高於(yu) 傳(chuan) 統LSI。
TFT液晶顯示屏功能強大:TFT作為(wei) 矩陣尋址電路,提高了液晶的光閥特性。對於(yu) 高分辨率顯示器,通過在0-6V範圍內(nei) (其典型值為(wei) 0.2-4V)調節電壓來實現對像素的精確控製,使得LCD實現高質量、高分辨率的顯示成為(wei) 可能。
TFT液晶顯示屏成本低:玻璃基板和塑料基板從(cong) 根本上解決(jue) 了大規模半導體(ti) 集成電路的成本問題,為(wei) 大規模半導體(ti) 集成電路的應用開辟了廣闊的應用空間。
TFT液晶顯示屏工藝靈活:除了濺射、CVD(化學氣相沉積)、MCVD(分子化學氣相沉積)等傳(chuan) 統工藝外,激光退火技術也開始應用,可以製作非晶薄膜、多晶薄膜和單晶薄膜。不僅(jin) 可以製作矽膜,還可以製作其他II-VI和III-V半導體(ti) 膜。
TFT液晶顯示屏應用領域廣。基於(yu) TFT技術的液晶平板顯示器是信息社會(hui) 的支柱產(chan) 業(ye) ,該技術也可以應用於(yu) 快速發展的TFT-有機發光二極管平板顯示器。
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