TFT液晶顯示屏-LCD顯示屏的製造工藝

TFT液晶顯示屏-LCD顯示屏通過什麽(me) 製造工藝發揮其在顯示屏中的巨大優(you) 勢？本文重點介紹深圳星宇和電子技術人員對TFT-LCD的製造工藝的詳細介紹，希望對您有所幫助。

TFT液晶顯示屏-LCD彩色液晶屏模塊

1.薄膜晶體(ti) 管液晶顯示器的製造過程包括以下幾個(ge) 部分

①在薄膜晶體(ti) 管基板上形成薄膜晶體(ti) 管陣列；

2)在彩色濾光片基板上形成彩色濾光片圖案和ITO導電層；

(3)形成具有兩(liang) 個(ge) 基板的液晶盒；

④用於(yu) 安裝外圍電路、組裝背光等的模塊組件。

第二，在TFT液晶顯示屏基板上形成TFT陣列的過程

現在已經產(chan) 業(ye) 化的TFT液晶顯示屏類型有非晶矽TFT (a-Si TFT)、多晶矽TFT (p-Si TFT)和單晶矽TFT(c-Si TFT)。目前還在使用a-Si TFT。

非晶矽薄膜晶體(ti) 管的製造過程如下:

(1)首先在硼矽玻璃襯底上濺射柵極材料薄膜，經過掩膜曝光、顯影和幹法刻蝕後形成柵極布線圖形。用於(yu) 普通掩模曝光的步進曝光機。

②用PECVD法進行連續成膜，形成SiNx膜、未摻雜a-Si膜和摻磷n+a-Si膜。然後，進行掩模曝光和幹法蝕刻以形成TFT部分的a-Si圖案。

③通過濺射成膜法形成透明電極(ITO膜)，然後通過掩膜曝光和濕法刻蝕形成顯示電極圖形。

④通過掩模曝光和幹法蝕刻形成柵極端子處的絕緣膜的接觸孔圖案。

(5)濺射AL等以形成薄膜，用掩模曝光和蝕刻以形成TFT的源極、漏極和信號線圖案。通過PECVD方法形成保護絕緣膜，然後通過掩模曝光和幹法蝕刻對絕緣膜進行蝕刻和成形(保護膜用於(yu) 保護柵電極、信號線電極端子和顯示電極)。

TFT液晶顯示屏陣列工藝是TFT液晶顯示屏-LCD製造工藝的關(guan) 鍵，也是設備投入較大的部分。整個(ge) 過程需要在非常高的淨化條件下進行(比如10級)。

第三，在濾色器(CF)基板上形成濾色器圖案的過程

彩色濾光片的著色部分的形成方法包括染料法、顏料分散法、印刷法、電解沉積法和噴墨法。目前主要是顏料分散法。

顏料分散法是將顆粒均勻(平均粒徑小於(yu) 0.1微米)(R、G、B)的精細顏料分散在透明光敏樹脂中。然後，將它們(men) 依次塗布、曝光和顯影，形成紅綠藍三色圖案。製造中使用光刻技術，使用的器件主要是鍍膜、曝光、顯影器件。

為(wei) 了防止漏光，通常在RGB的交界處加入黑矩陣(BM)。過去用濺射法形成單層金屬鉻膜，現在也有金屬鉻和氧化鉻複合的BM膜或混合碳樹脂的樹脂BM。

另外還需要在BM上做保護膜，形成IT0電極，因為(wei) 帶濾色器的基板是液晶屏的前基板，帶TFT的後基板共同構成了液晶盒。所以一定要注意定位問題，讓彩色濾光片的每個(ge) 單元對應TFT基板的每個(ge) 像素。

四。液晶盒的製備工藝

在上基板和下基板的表麵分別塗覆聚酰亞(ya) 胺薄膜，形成能夠誘導分子按照摩擦過程的要求進行排列的取向膜。然後，在TFT陣列基板周圍鋪設密封材料，並在基板上噴塗襯墊。同時，在CF基板的透明電極端部塗覆銀漿。然後，將兩(liang) 個(ge) 基板對準並結合，以將CF圖案與(yu) TFT像素圖案對準，並通過熱處理固化密封材料。在印刷密封材料時，需要留一個(ge) 注入口，這樣可以通過真空填充液晶。

近年來，隨著技術的進步和基板尺寸的不斷增大，盒子的製造技術也有了很大的提高。比較有代表性的是充晶方式的改變，由原來的盒充法改為(wei) ODF法，即充晶和盒成型同時進行。此外，襯片法不再使用傳(chuan) 統的噴塗方法，而是通過光刻直接製作在陣列上。

5.外圍電路、背光組件等模塊組裝工藝。

在液晶盒的製造過程完成後，需要在麵板上安裝外圍驅動電路，然後在兩(liang) 個(ge) 基板的表麵貼上偏振片。如果是透射式LCD，應該安裝背光。

材料和工藝是影響產(chan) 品性能的兩(liang) 個(ge) 主要因素。TFT液晶顯示屏-LCD顯示屏經過以上四個(ge) 主要工序，大量複雜的製造工藝形成了我們(men) 看到的產(chan) 品。